추천 제품
Quality Level
애플리케이션
Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).
특징 및 장점
Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
Storage Class Code
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 1
Flash Point (°F)
Not applicable
Flash Point (°C)
Not applicable
개인 보호 장비
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
시험 성적서(COA)
제품의 로트/배치 번호를 입력하여 시험 성적서(COA)을 검색하십시오. 로트 및 배치 번호는 제품 라벨에 있는 ‘로트’ 또는 ‘배치’라는 용어 뒤에서 찾을 수 있습니다.
자사의 과학자팀은 생명 과학, 재료 과학, 화학 합성, 크로마토그래피, 분석 및 기타 많은 영역을 포함한 모든 과학 분야에 경험이 있습니다..
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