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Merck
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문서

667447

Sigma-Aldrich

Ceramic Etchant A

동의어(들):

Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant

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About This Item

MDL number:
UNSPSC 코드:
12352300
NACRES:
NA.23

애플리케이션

Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).

특징 및 장점

Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min

픽토그램

CorrosionExclamation mark

신호어

Danger

유해 및 위험 성명서

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

Storage Class Code

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 1

Flash Point (°F)

Not applicable

Flash Point (°C)

Not applicable

개인 보호 장비

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


시험 성적서(COA)

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