추천 제품
형태
solution
Quality Level
농도
~2.0 M in THF
작용기
amine
SMILES string
CN(C)P(=NC(C)(C)C)(N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C14H39N7P2/c1-14(2,3)15-22(17(4)5,18(6)7)16-23(19(8)9,20(10)11)21(12)13/h1-13H3
InChI key
CJTQESMNKMUZAO-UHFFFAOYSA-N
기타 정보
Extremely strong and hindered neutral nitrogen base; it is about 109 times more basic than DBU [pKa (DMSO) 21.45]. Stable to hydrolysis and unaffected by alkylating agents; Highly selective base; Deprotonation of phosphines
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Carc. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3
표적 기관
Respiratory system
보충제 위험성
Storage Class Code
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 3
Flash Point (°F)
1.4 °F - closed cup
Flash Point (°C)
-17 °C - closed cup
개인 보호 장비
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
이미 열람한 고객
Liebigs Ann. Chem., 1055-1055 (1996)
Phosphorus, Sulfur, and Silicon and the Related Elements, 81, 155-155 (1993)
Angewandte Chemie (International Edition in English), 101, 1281-1281 (1989)
문서
Phosphazene base reagents are available as monomeric (P1 and BEMP), dimeric (P2), and tetrameric (P4) bases with different side chains to control their sterical hindrance.
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