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アプリケーション
- Hafnium(IV) oxide: Utilized predominantly in the semiconductor industry, Hafnium(IV) oxide offers excellent thermal and chemical stability, which makes it suitable as a high-k gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor (MOS) devices. Its application has become increasingly important with the miniaturization of electronic components, aiding in the enhancement of transistor performance without further reducing the component size. This role is critical in the development of more efficient, faster computing technologies (Sigma-Aldrich, CAS 12055-23-1).
保管分類コード
11 - Combustible Solids
WGK
nwg
引火点(°F)
Not applicable
引火点(℃)
Not applicable
個人用保護具 (PPE)
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物
名称等を通知すべき危険物及び有害物
Jan Code
202118-100G:4548173930077
202118-25G:4548173930084
202118-BULK:
202118-VAR:
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資料
In recent years silicon carbide, SiC, has re-emerged as a vital technological material that is crucial in many materials and engineering applications.
炭化ケイ素は、機械的用途だけでなくエレクトロニクス用および光学用材料としても注目されている材料です。
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
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