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108-112 °C (lit.)
品質水準
SMILES記法
CC(C)C[Si]12O[Si]3(CCCOC(=O)C(C)=C)O[Si]4(CC(C)C)O[Si](CC(C)C)(O1)O[Si]5(CC(C)C)O[Si](CC(C)C)(O2)O[Si](CC(C)C)(O3)O[Si](CC(C)C)(O4)O5
InChI
1S/C35H74O14Si8/c1-27(2)20-51-38-50(19-17-18-37-35(36)34(15)16)39-52(21-28(3)4)43-54(41-51,23-30(7)8)47-57(26-33(13)14)48-55(42-51,24-31(9)10)44-53(40-50,22-29(5)6)46-56(45-52,49-57)25-32(11)12/h27-33H,15,17-26H2,1-14,16H3
InChI Key
CVYLJMBNVJQTGW-UHFFFAOYSA-N
詳細
PSS-(1-プロピルメタクリレート)-ヘプタイソブチル置換シルセスキオキサン(POSS)は、ケイ素と酸素で構成される無機有機ケージ様構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)です。
アプリケーション
PSS-(1-プロピルメタクリレート)-ヘプタイソブチル置換体は機能性モノマーとして使用し、適切な鋳型分子、架橋剤、起泡性溶媒および開始剤を用いて、可逆的付加-開裂連鎖移動(RAFT)重合または熱開始フリーラジカル重合反応を介して、分子インプリントポリマーまたはハイブリッドモノリシック材料(MIP)を調製することができます。得られた高分子材料は、高い熱安定性、高い機械的安定性、難燃性表面硬化および耐酸化性などの優れた重合体特性を示しました。これらのPOSSナノ構造ポリマー材料は、さまざまな生物医学的アプリケーション、薬物送達、画像検査試薬、触媒担体、酵素様触媒、固相抽出、センサー、およびクロマトグラフィー固定相で、一般に使用されています。
保管分類コード
11 - Combustible Solids
WGK
WGK 3
個人用保護具 (PPE)
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
Jan Code
534633-VAR:
534633-5G:
534633-BULK:
534633-1G:
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Talanta, 152, 277-282 (2016-03-20)
Polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) was successfully applied, for the first time, to prepare imprinted monolithic coating for capillary electrochromatography. The imprinted monolithic coating was synthesized with a mixture of PSS-(1-Propylmethacrylate)-heptaisobutyl substituted (MA 0702), S-amlodipine (template), methacrylic acid (functional monomer), and
Analytical and bioanalytical chemistry, 409(15), 3741-3748 (2017-03-28)
Polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) was utilized to prepare imprinted polymer through reversible addition-fragmentation chain transfer polymerization (RAFT) successfully. The imprinted polymer was made with a mixture of RAFT agent, 4-vinylpyridine (4-VP), POSS monomer [PSS-(1-propylmethacrylate)-heptaisobutyl substituted, MA 0702], and ethylene glycol
Analytica chimica acta, 761, 209-216 (2013-01-15)
A simple approach to fabricate hybrid monolithic column within the confines of fused-silica capillaries (75 μm i.d.) was introduced. A polyhedral oligomeric silsesquioxanes (POSS) reagent containing a methacrylate group was selected as functional monomer, and copolymerized with bisphenol A dimethacrylate
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
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