おすすめの製品
詳細
酢酸ニッケル（II）四水和物は、水や極性溶媒に可溶なイオン化合物です。これは一般的に、さまざまな酸化ニッケルおよび水酸化ニッケルのナノ構造の合成の前駆体として使用されます。これらのナノ構造は、スーパーキャパシタ、電池、触媒などに用いられます。また、酢酸ニッケル四水和物は、化学気相成長法や原子層堆積法などのプロセスを通じて、ニッケルベースの薄膜やコーティングの製造にも利用されています。
アプリケーション
酢酸ニッケル（II）四水和物は、以下の用途に使用できます：
- ナノ構造の二セレン化ニッケル（NiSe2）の水熱合成における前駆物質として。
- サラモをベースとする二核ニッケル（II）複合体の合成における前駆物質として。
- ゾル-ゲル法による酸化ニッケル（NiO）の合成における前駆物質として。酸化ニッケルは、エレクトロクロミックデバイス、ガスセンサー、リチウムイオン電池など、さまざまな用途に合わせて調整することができます。
分子磁石の設計に理想的な多核ポリオキソタングステン酸ニッケルクラスタ-化合物の合成に用いられます。
シグナルワード
Danger
危険有害性の分類
Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Carc. 1A - Muta. 2 - Repr. 1B - Resp. Sens. 1 - Skin Sens. 1 - STOT RE 1
保管分類コード
6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects
WGK
WGK 3
引火点(°F)
Not applicable
引火点(℃)
Not applicable
個人用保護具 (PPE)
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
PRTR
特定第一種指定化学物質
労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物
名称等を表示すべき危険物及び有害物
労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物
名称等を通知すべき危険物及び有害物
Jan Code
244066-500G:4548173293899
244066-VAR:
244066-BULK:
244066-100G:4548173293882
244066-5G:4548173293905
この製品を見ている人はこちらもチェック
Piotr Homa et al.
Scientific reports, 10(1), 740-740 (2020-01-22)
In this work, few-layered molybdenum disulfide (MoS2) was functionalized with metal oxide (MxOy) nanoparticles which served as a catalyst for carbon nanotubes (CNT) growth in the chemical vapour deposition (CVD) process. The resulting MoS2/MxOy/CNT functionalized nanomaterials were used for flame
Clemente-Juan, J.M. et al.
Inorganic Chemistry, 38, 55-55 (1999)
Elham S Aazam et al.
Bioorganic chemistry, 57, 5-12 (2014-08-28)
Transition metal complexes compounds with Schiff bases ligand representing an important class of compounds that could be used to develop new metal-based anticancer agents and as precursors of metal NPs. Herein, 2,3-bis-[(3-ethoxy-2-hydroxybenzylidene)amino]but-2-enedinitrile Schiff base ligand and its corresponding copper/nickel complexes
K Korschelt et al.
Nanoscale, 10(27), 13074-13082 (2018-07-03)
The large-scale production and ecotoxicity of urea make its removal from wastewater a health and environmental challenge. Whereas the industrial removal of urea relies on hydrolysis at elevated temperatures and high pressure, nature solves the urea disposal problem with the
Yong Jin Jeong et al.
ACS nano, 12(8), 7701-7709 (2018-07-20)
Photoresponsive transistor memories that can be erased using light-only bias are of significant interest owing to their convenient elimination of stored data for information delivery. Herein, we suggest a strategy to improve light-erasable organic transistor memories, which enables fast "photoinduced
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
製品に関するお問い合わせはこちら（テクニカルサービス）