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Merck

647705

Sigma-Aldrich

ケイ素

wafer, <111>, P-type, contains boron as dopant, diam. × thickness 2 in. × 0.3 mm

別名:

Silicon element

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About This Item

化学式:
Si
CAS番号:
分子量:
28.09
MDL番号:
UNSPSCコード:
12352300
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

形状

crystalline (cubic (a = 5.4037))
wafer

品質水準

含みます

boron as dopant

直径×厚み

2 in. × 0.3 mm

bp

2355 °C (lit.)

mp

1410 °C (lit.)

密度

2.33 g/mL at 25 °C (lit.)

半導体特性

<111>, P-type

SMILES記法

[Si]

InChI

1S/Si

InChI Key

XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N

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物性

0 vortex defects. Etch pitch density (EPD) < 100 (cm-2). Resistivity 10-3 - 40 Ωcm
Oxygen content: <= 1~1.8 x 1018 /cm3; Carbon content: <= 5 x 1016 /cm3; Boule diameter: 1~8 ″

保管分類コード

13 - Non Combustible Solids

WGK

WGK 2

引火点(°F)

Not applicable

引火点(℃)

Not applicable

個人用保護具 (PPE)

Eyeshields, Gloves, type N95 (US)


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

名称等を表示すべき危険物及び有害物

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

名称等を通知すべき危険物及び有害物

Jan Code

647705-5EA:
647705-1EA:
647705-VAR:
647705-BULK:


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資料

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一置換および二置換アルコキシシロキサンから合成された融解ゲルは、生物医学、電子工学、光電子工学などへの応用が期待されています。

プロトコル

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

本フォトレジストキットには、リソグラフィープロセスにおける各ステップで必要な材料が含まれています。各材料は、すぐにお使いいただけるようにあらかじめ計量されており、エッチング液については、様々な基板に適切なものをお選びいただけるように、個別に販売しています。

ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.

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