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Merck
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安全性情報

651796

Sigma-Aldrich

ネガティブフォトレジストI

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About This Item

CAS番号:
9003-31-0
MDL番号:
MFCD00084438
UNSPSCコード:
41116107
NACRES:
NA.23

分子量

average Mw 60,000-70,000 (polyisoprene)

品質水準

100

組成

solids, 27-29 wt. %

誘電率

2.4

表面張力

29.2 dyn/cm

粘度

465-535 cP(25 °C)

bp

122-142 °C (lit.)

密度

0.89 g/mL at 25 °C (lit.)

λmax

310-480 nm

保管温度

2-8°C

SMILES記法

O1C(OCC(C1)(C)C)CCCCCCCC

InChI

1S/C14H28O2/c1-4-5-6-7-8-9-10-13-15-11-14(2,3)12-16-13/h13H,4-12H2,1-3H3

InChI Key

UBZVSDZJBLSIJG-UHFFFAOYSA-N

関連するカテゴリー

詳細

ネガ型フォトレジストキット(654892)に含まれています。
優れた解像度、密着性、耐腐食性を示し、ピンホ-ル密度の低い、安定化精製済みフォトレジストです。

ピクトグラム

FlameHealth hazardExclamation mark
GHS02,GHS08,GHS07

シグナルワード

Danger

危険有害性の分類

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

ターゲットの組織

Respiratory system

保管分類コード

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 3

引火点(°F)

75.2 °F - closed cup

引火点(℃)

24 °C - closed cup

個人用保護具 (PPE)

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

PRTR

第一種指定化学物質

消防法

第4類:引火性液体
第二石油類
危険等級III
非水溶性液体

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

名称等を表示すべき危険物及び有害物

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

名称等を通知すべき危険物及び有害物

Jan Code

651796-BULK:
651796-100ML:4548173241586
651796-VAR:

最新バージョンのいずれかを選択してください：

試験成績書（COA）

Lot/Batch Number
MKCK5970
MKCJ2028
MKCG8986
MKCJ0922
MKCF2182

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Wen-Yu Chai et al.
Chemistry, an Asian journal, 7(1), 143-155 (2011-10-29)
The novel double-stage convergent synthesis of a new class of polyisoprene terpenoid (PIPTP) dendrons is described. PIPTP dendrons bear a highly branched aliphatic hydrocarbon skeleton and a hydrophilic hydroxy focal point functionality. These dendrons have the specific formula C((5×2)(G+1)(-5))H((5×2)(G+2)(-8))O, and
Kyoung-Yong Chun et al.
Nanotechnology, 24(16), 165401-165401 (2013-03-29)
The prospect of electronic circuits that are stretchable and bendable promises tantalizing applications such as skin-like electronics, roll-up displays, conformable sensors and actuators, and lightweight solar cells. The preparation of highly conductive and highly extensible materials remains a challenge for
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The primary alpha-relaxation time (tau(alpha)) for molecular and polymeric glass formers probed by dielectric spectroscopy and two light scattering techniques (depolarized light scattering and photon correlation spectroscopy) relates to the decay of the torsional autocorrelation function computed by molecular dynamics
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Planta, 236(5), 1405-1417 (2012-06-26)
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Plant physiology, 158(3), 1406-1417 (2012-01-13)
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プロトコル

ネガ型フォトレジストキットの取り扱い方法

本フォトレジストキットには、リソグラフィープロセスにおける各ステップで必要な材料が含まれています。各材料は、すぐにお使いいただけるようにあらかじめ計量されており、エッチング液については、様々な基板に適切なものをお選びいただけるように、個別に販売しています。

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.

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