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Merck

339164

Sigma-Aldrich

ビス(シクロペンタジエニル)コバルト(II)

別名:

Cobaltocene

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About This Item

化学式:
Co(C5H5)2
CAS番号:
分子量:
189.12
EC Number:
MDL番号:
UNSPSCコード:
12352103
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

形状

powder or crystals
solid

品質水準

反応適合性

core: cobalt

mp

176-180 °C (dec.) (lit.)

保管温度

2-8°C

SMILES記法

[Co].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C5H5.Co/c2*1-2-4-5-3-1;/h2*1-5H;

InChI Key

PXFGMRZPRDJDEK-UHFFFAOYSA-N

詳細

ビス(シクロペンタジエニル)コバルト(II)は、コバルトセンとも呼ばれ、ポリマー合成、コバルトナノ材料、レドックスフロー電池の分野で広く使用されている有機金属化合物です。

アプリケーション

ビス(シクロペンタジエニル)コバルト(II)は以下の用途に使用できます:
  • 熱電変換効率の高いカプセル化カーボンナノチューブを調製するためのドーパントとして。
  • さまざまな用途に向けた酸化コバルト薄膜を製作するためのCVD前駆体として。
  • 高いエネルギー密度とエネルギー効率を実現するための、リチウムベースのレドックスフロー電池のレドックス活性アノード種として。
  • メタクリル酸メチルの制御された/“リビング”ラジカル重合の触媒として。

ピクトグラム

FlameHealth hazard

シグナルワード

Danger

危険有害性情報

危険有害性の分類

Carc. 2 - Flam. Sol. 2 - Muta. 2 - Resp. Sens. 1 - Skin Sens. 1

保管分類コード

4.1B - Flammable solid hazardous materials

WGK

WGK 3

個人用保護具 (PPE)

Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

PRTR

第一種指定化学物質

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

名称等を表示すべき危険物及び有害物

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

名称等を通知すべき危険物及び有害物

Jan Code

339164-1G:
339164-100G:
339164-500G:
339164-2G:4548173928302
339164-10G:4548173928296
339164-VAR:
339164-BULK:


最新バージョンのいずれかを選択してください:

試験成績書(COA)

Lot/Batch Number

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特定のバージョンが必要な場合は、ロット番号またはバッチ番号で特定の証明書を検索できます。

以前この製品を購入いただいたことがある場合

文書ライブラリで、最近購入した製品の文書を検索できます。

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A high-performance all-metallocene-based, non-aqueous redox flow battery
Yu Ding, et al.
Energy & Environmental Science, 10, 491-497 (2017)
Development of n-type cobaltocene-encapsulated carbon nanotubes with remarkable thermoelectric property
Takahiro Fukumaru, et al.
Scientific Reports, 5, 7951-7951 (2015)
Jacob M Clary et al.
Nanotechnology, 31(17), 175703-175703 (2020-01-09)
Highly dispersed cobalt atoms were deposited on porous alumina particles using atomic layer deposition (ALD) with a CoCp2/H2 chemistry at approximately 7 wt%. H2 did not completely reduce the cyclopentadienyl organic ligands bound to deposited Co atoms at ALD reaction
Thin films of cobalt oxide deposited on high aspect ratio supports by atomic layer deposition
Madeleine Diskus, et al
Chem. Vap. Deposition, 17, 135-140 (2011)
F Li et al.
Chemical science, 9(30), 6379-6389 (2018-10-13)
A series of NO-bound, iron-functionalized polyoxovanadate-alkoxide (FePOV-alkoxide) clusters have been synthesized, providing insight into the role of multimetallic constructs in the coordination and activation of a substrate. Upon exposure of the heterometallic cluster to NO, the vanadium-oxide metalloligand is oxidized

資料

分子層堆積(MLD)はALDと同様に逐次の自己限定的表面反応に基づいており、有機および有機-無機ハイブリッドポリマーの精密な堆積が可能です。

Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.

超音波噴霧熱分解(USP)法は、スケーラブルで連続的であるという利点を持っており、多様な種類の材料合成において有効です。

The diversity of applications and nanostructured materials accessible using ultrasonic spray methods are highlighted in this article.

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